网站首页 产品系列 CVD系统/PECVD系统 2026美加墨世界杯比赛分布图 1200℃滑动双温区PECVD系统
返回列表更新时间:2026-07-31
厂商性质:生产厂家
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产品用途:
1200℃滑动双温区PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。
产品组成:
PECVD系统配置:
1.1200度开启式双温区真空管式炉
2.等离子射频电源
3.多路质量流量控制系统
4.真空系统(可选配中真空或高真空)
产品特点:
1200℃滑动双温区PECVD系统生长温度低;沉积速率快;成膜质量好,适用范围广,设备简单。
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